专利报告：磁性材料技术发展报告
[报告名称]: 专利报告：磁性材料技术发展报告
[出版日期]: 2007年11月
[交付方式]: EMAIL电子版或特快专递
[价 格]: 印刷版:9800元 电子版:10300元 印刷+电子:10800元
[出版日期]: 2007年11月
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〖 目 录 〗
第一章 磁性材料技术领域背景介绍
一、磁性材料技术领域涉及的核心技术及其定义和分类
二、磁性材料技术领域的国内外技术发展状况概述
三、磁性材料技术领域的行业产品简介（主要品种、市场收入情况、专利有效期情况、其外围专利情况）
第二章 国内外专利技术总体发展趋势分析
第一节 磁性材料技术领域专利技术总体发展概况
一、磁性材料技术领域专利申请量占所有专利申请总量的比例
二、磁性材料技术领域专利申请时间发展趋势
三、磁性材料技术领域技术地域分布及重点技术发展趋势
四、磁性材料技术领域主要技术类别发展趋势及区域分布
五、国内和国外磁性材料技术领域技术发展趋势对比分析
六、磁性材料技术领域专利权人地域分布
第二节 国内磁性材料技术领域专利技术发展概况
一、国内主要专利权人分布情况
二、全国各省、市、自治区专利申请统计情况
三、中国磁性材料技术领域前5强企业的专利申请情况（发明，实用新型，外观，科研经费投入等）
四、外国磁性材料技术领域企业在中国的专利申请情况（发明，实用新型，外观等）
第三章 重点技术领域专利发展趋势分析
第一节 磁性纳米微晶技术领域发展趋势分析
一、磁性纳米微晶技术领域专利申请时间发展趋势
二、磁性纳米微晶技术领域专利申请区域分布
三、磁性纳米微晶领域核心技术的专利分布情况及发展趋势
四、磁性纳米微晶技术的专利权人分析
五、国内外磁性纳米微晶专利技术对比研究
第二节 铁氧体磁性材料技术发展趋势分析
一、铁氧体磁性材料技术领域专利申请时间发展趋势
二、铁氧体磁性材料技术领域专利申请区域分布
三、铁氧体磁性材料领域核心技术的专利分布情况及发展趋势
四、铁氧体磁性材料技术的专利权人分析
五、国内外铁氧体磁性材料专利技术对比研究
第三节 磁记录材料技术发展趋势分析
一、磁记录材料技术领域专利申请时间发展趋势
二、磁记录材料技术领域专利申请区域分布
三、磁记录材料领域核心技术的专利分布情况及发展趋势
四、磁记录材料技术的专利权人分析
五、国内外磁记录材料领域专利技术对比研究
第四章 重点企业专利技术发展趋势分析
第一节Tokin公司
一、公司简介及专利申请状况
二、主要技术专利申请状况
三、主要技术专利申请地域分布状况
四、重要专利技术保护地域、期限、外围专利状况
第二节Hitachi公司
一、公司简介及专利申请状况
二、主要技术专利申请状况
三、主要技术专利申请地域分布状况
四、重要专利技术保护地域、期限、外围专利状况
第三节TDK公司
一、公司简介及专利申请状况
二、主要技术专利申请状况
三、主要技术专利申请地域分布状况
四、重要专利技术保护地域、期限、外围专利状况
第四节Matsushita Electronic Ind.公司
一、公司简介及专利申请状况
二、主要技术专利申请状况
三、主要技术专利申请地域分布状况
四、重要专利技术保护地域、期限、外围专利状况
第五节Toshiba公司
一、公司简介及专利申请状况
二、主要技术专利申请状况
三、主要技术专利申请地域分布状况
四、重要专利技术保护地域、期限、外围专利状况
第五章 结论与建议
第一节 磁性材料技术领域发展趋势总结
第二节 磁性材料技术领域发展建议
附录：
1、图表目录
2、2007年磁性材料技术领域前5强名录
3、检索资源
INPODOC（Dialog 345）
World Patent Index（Dialog 351）
中国专利文摘数据库（CPRS）
东方灵盾数据仓库
清华同方中国知网（CNKI）
万方数据库
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