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我国科学家首次获得纳米级光雕刻三维结构

导读 9月15日电,国际顶级学术期刊《自然》14日夜发表了我国科学家在下一代光电芯片制造领域的重大突破。这一重大发明,未来或可开辟光电芯片制

9月15日电,国际顶级学术期刊《自然》14日夜发表了我国科学家在下一代光电芯片制造领域的重大突破。这一重大发明,未来或可开辟光电芯片制造新赛道,有望用于光电调制器、声学滤波器、非易失铁电存储器等关键光电器件芯片制备,在5G/6G通讯、光计算、人工智能等领域有广泛的应用前景。

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来源:淘股吧

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