导航菜单

​日本更可能实施对光刻和薄膜沉积设备的出口管制

导读 根据电子时报报道,日本对于中国的半导体设备出口限制条例已经在2023年的7月23日正式生效,DIGITIMES Research分析师Eric Chen表示日本此

根据电子时报报道,日本对于中国的半导体设备出口限制条例已经在2023年的7月23日正式生效,DIGITIMES Research分析师Eric Chen表示日本此次对于中国的半导体设备出口限制,很有可能会包括光刻和薄膜沉积设备,以此来影响到中国半导体的制造业发展。

在日本的半导体设备出口限制条例正式开始实施以后,业内人士纷纷开始猜测对于中国半导体行业的影响。据了解本次日本出台的设备出口禁令有23种半导体设备,其中就包括光刻、热处理、清洗、检验等多种设备。在光刻设备中,荷兰地区的asml和日本地区的尼康,佳能公司是全球最主要的供应商,据统计这几家在光刻市场中的市场份额已经达到了95%以上。在刻蚀市场中,美国地区的泛林集团和日本地区的东京电子公司是最主要的供应商,这两家公司在全球中的市场份额已经超过了90%。

在薄膜沉积设备中,除了美国地区的KLA和瑞士Evatec和荷兰ASM以外,日本地区的真空技术株式会社和东京电子公司同样是最主要的供应商,这些公司在全球市场中的份额已经达到了80%~90%。分析师Eric Chen经过研究统计发现,在2022年全年中国市场中的半导体设备依旧有60%来自于美国、日本和荷兰地区,其中日本是中国半导体设备最主要的进口国,约占总进口额的30%左右。

分析师Eric Chen认为日本最新出台的出口管制措施有将近一半都和薄膜加工设备有关,在光刻设备方面分析师Eric Chen认为管制措施将会限制EUV掩膜沉积设备和与EUV工艺涂层有关的设备出口。在刻蚀设备方面,Eric Chen指出日本政府对于硅锗的湿法刻蚀和干法刻蚀设备都有一定的出口限制。

免责声明:本文由用户上传,如有侵权请联系删除!

猜你喜欢:

最新文章: