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突破技术限制!低温焊助力HBM内存产能提升

导读 近日,随着人工智能市场的爆发,各类关键技术的提升成为行业的焦点。在这一背景下,除了CPU、GPU算力的提升,HBM内存的需求也迅速攀升。然

近日,随着人工智能市场的爆发,各类关键技术的提升成为行业的焦点。在这一背景下,除了CPU、GPU算力的提升,HBM内存的需求也迅速攀升。然而,HBM内存的生产一直受到产能限制、成本高以及焊接工艺复杂等问题的制约。为了克服这些挑战,MK Electronics公司推出了一项创新的低温焊技术,为HBM内存的生产提供了新的可能性。

HBM(High Bandwidth Memory)内存作为高性能计算和人工智能应用中的重要组成部分,其性能和效率的提升对于整个行业具有重要意义。然而,由于HBM内存采用了TSV(Through Silicon Via)硅通孔技术,传统的高温焊接技术可能会引起芯片变形等问题。此前主流的高温焊接技术采用SAC(Sn-Ag-Cu)锡、银、铜材料,熔点超过250℃,不太适用于HBM内存的特殊要求。

为了解决这一难题,MK Electronics公司研发出了专门适用于HBM内存的低温焊技术。这种新型焊接技术使用了由铋(Bi)、锡(Sn)和银(Ag)制成的焊球,其熔点低于150℃,比传统高温焊接技术降低了100多度。通过这种低温焊接技术,HBM内存的生产过程不仅得以提高生产效率,还能够降低因高温引起的产品变形和缺陷,从而提高了产品的良率和质量。

这项低温焊技术的突破不仅为HBM内存生产带来了新的机遇,也为整个行业的发展注入了新的活力。在三星、SK海力士等公司积极扩大HBM内存的生产规模的背景下,这项创新的焊接技术预计很快会在业界得到广泛应用。通过降低生产成本、提高产能,以及保障产品质量,这项低温焊技术将进一步推动HBM内存在高性能计算和人工智能领域的应用和发展,为技术进步和产业升级贡献一份力量。

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